Kundenspezifischer einkristalliner Siliziumwafer25,4*25,4*0,5 mm Si-Substrat mit einseitig poliertem N/P-optionalem Wafer

Produkte

HeimHeim / Produkte / Kristallsubstrate / Einzelheiten
Kundenspezifischer einkristalliner Siliziumwafer25,4*25,4*0,5 mm Si-Substrat mit einseitig poliertem N/P-optionalem Wafer

Kundenspezifischer einkristalliner Siliziumwafer25,4*25,4*0,5 mm Si-Substrat mit einseitig poliertem N/P-optionalem Wafer

Maßgeschneiderter einkristalliner Siliziumwafer25,4*25,4*0,5 mm Si-Substrat mit einseitig poliertem N/P-optionalem Wafer

Senden Sie Ihre Anfrage

BESCHREIBUNG

Basisinformation
Modell Nr.FW-LN
Modell1324
ChargennummerPoliert
MarkeFinewen
WachstumsmethodeCZ und Fz
Orientierung111 oder 100
Widerstand0,0005 bis 150
OberflächeDoppelseitig poliert oder einseitig poliert
DotierstoffN-Typ und P-Typ
Partikel<30 bei 0,3 um
Bogen< 30 Ähm
Ttv<15 Ähm
TransportpaketKasten
Spezifikationindividuelle Größe
WarenzeichenFW-Wafer
HerkunftJiaozuo Henan
Produktionskapazität100.000 Stück/Monat
Produktbeschreibung

Kundenspezifischer einkristalliner Siliziumwafer25,4*25,4*0,5 mm Si-Substrat mit optionalem einseitig poliertem N/P-Wafer


1. Was sind Oxidsiliziumwafer und ihre Anwendung:
Der Silizium-Thermodioxid-Wafer bezieht sich auf das thermische Wachstum eines gleichmäßigen dielektrischen Films auf der Oberfläche des Siliziumwafers, der als Isolations- oder Maskenmaterial verwendet wird. Der Oxidationsprozess umfasst trockene Sauerstoffoxidation bei hoher Temperatur und nasse Sauerstoffoxidation bei hoher Temperatur.

Customized Single Crystal Silicon Wafer25.4*25.4*0.5mm Si Substrate with Single Side Polished N/P Optional Wafer

Customized Single Crystal Silicon Wafer25.4*25.4*0.5mm Si Substrate with Single Side Polished N/P Optional Wafer


2.Produktbeschreibung

Produktname

CZ und FZ Polierter Siliziumwafer

Material

Silizium

Durchmesser

150mm

Oberflächenfinish

SSP

Orientierung

Keine Anfrage

Grad

Keiner

Typ

Keiner

Widerstand

Keiner

Dicke

2500um

3. Herstellung eines Siliziumwafers
Wachsen einSiliziumbarren Der Prozess kann zwischen einer Woche und einem Monat dauern, abhängig von vielen Faktoren, einschließlich Größe, Qualität und Spezifikation. Mehr als 75 % aller einkristallinen Siliziumwafer wachsen nach der Czochralski-Methode (CZ).

Customized Single Crystal Silicon Wafer25.4*25.4*0.5mm Si Substrate with Single Side Polished N/P Optional Wafer


4. Von uns verwendete Ausrüstung

Customized Single Crystal Silicon Wafer25.4*25.4*0.5mm Si Substrate with Single Side Polished N/P Optional Wafer

5. Spezifikationen (verwandte Produkte, die wir liefern können)

Customized Single Crystal Silicon Wafer25.4*25.4*0.5mm Si Substrate with Single Side Polished N/P Optional Wafer


6.FAQ:

F: Wie sieht der Versand und die Kosten aus?

A:(1) Wir akzeptieren DHL, Fedex, TNT, UPS, EMS usw.

(2) Wenn Sie über ein eigenes Express-Konto verfügen, ist das großartig. Wenn nicht, können wir Ihnen beim Versand helfen.

F: Wie bezahle ich?

A: T/T, Paypal usw

F: Was ist Ihr MOQ?

A: (1) Für den Lagerbestand beträgt die Mindestbestellmenge 5 Stück.

(2) Für kundenspezifische Produkte beträgt die Mindestbestellmenge 10–25 Stück.

F: Wie ist die Lieferzeit?

A: (1) Für die Standardprodukte

Für den Lagerbestand: Die Lieferung erfolgt 5 Werktage nach Ihrer Bestellung.

Bei kundenspezifischen Produkten: Die Lieferung erfolgt 2 oder 3 Wochen nach Ihrer Bestellung.

(2) Bei Produkten mit Sonderform erfolgt die Lieferung 4 bzw. 6 Arbeitswochen nach Ihrer Bestellung.

F: Haben Sie Standardprodukte?

A: Unsere Standardprodukte auf Lager.

F: Kann ich die Produkte an meine Bedürfnisse anpassen?

A: Ja, wir können das Material, die Spezifikationen und die optische Beschichtung Ihrer optischen Komponenten entsprechend Ihren Anforderungen anpassen.